Paddle Cantilever SiC Ardíonachta

Is monaróir agus nuálaí tosaigh é VeTek Semiconductor ar High Purity SiC Cantilever Paddle sa tSín. Úsáidtear Paddles Cantilever SiC Ardíonachta go coitianta i bhfoirnéisí idirleata leathsheoltóra mar ardáin aistrithe nó luchtaithe wafer. Tá VeTek Semiconductor tiomanta do réitigh chun cinn teicneolaíochta agus táirgí a sholáthar don tionscal leathsheoltóra. Táimid ag tnúth le bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach sa tSín.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Is príomh-chomhpháirt é SiC Cantilever Paddle a úsáidtear i dtrealamh próiseála leathsheoltóra. Tá an táirge déanta as ábhar chomhdhúile sileacain ard-íonachta (SiC). In éineacht lena saintréithe den scoth a bhaineann le íonacht ard, cobhsaíocht teirmeach ard agus friotaíocht creimeadh, úsáidtear é go forleathan i bpróisis ar nós aistriú wafer, tacaíocht agus próiseáil ardteochta, ag soláthar ráthaíocht iontaofa chun cruinneas próisis agus cáilíocht an táirge a chinntiú.

Go ginearálta, imríonn Paddle Cantilever SiC Ardíonachta na róil shonracha seo a leanas sa phróiseas próiseála leathsheoltóra:

Aistriú wafer: Úsáidtear Paddle Cantilever SiC Ard-íonachta de ghnáth mar fheiste aistrithe wafer i bhfoirnéisí idirleata nó ocsaídiúcháin ardteochta. Déanann a chruas ard é a chaitheamh-resistant agus ní éasca é a dhífhoirmiú le linn úsáide fadtéarmach, agus féadann sé a chinntiú go bhfanann an wafer suite go cruinn le linn an phróisis aistrithe. In éineacht lena theocht ard agus friotaíocht creimeadh, is féidir leis sliseog a aistriú go sábháilte isteach agus amach as an bhfeadán foirnéise i dtimpeallachtaí teocht ard gan aon éilliú nó damáiste do na sliseog.

Tacaíocht wafer: Tá comhéifeacht íseal leathnú teirmeach ag ábhar SiC, rud a chiallaíonn go n-athraíonn a mhéid níos lú nuair a athraíonn an teocht, rud a chabhraíonn le rialú beacht a choinneáil sa phróiseas. I bpróisis sil-leagan ceimiceach gaile (CVD) nó sil-leagain gaile fisiceach (PVD), úsáidtear SiC Cantilever Paddle chun an wafer a thacú agus a shocrú chun a chinntiú go bhfanann an wafer cobhsaí agus cothrom le linn an phróisis sil-leagan, rud a fheabhsaíonn aonfhoirmeacht agus cáilíocht an scannáin. .

Cur i bhfeidhm próisis teocht ard: Tá cobhsaíocht theirmeach den scoth ag SiC Cantilever Paddle agus is féidir leis teocht suas le 1600 ° C a sheasamh. Dá bhrí sin, úsáidtear an táirge seo go forleathan i annealing teocht ard, ocsaídiú, idirleathadh agus próisis eile.

Airíonna fisiceacha bunúsacha Paddle Cantilever SiC Ardíonachta: