An tSín Próiseas Eitseála ICP/PSS Monaróir, Soláthraí, Monarcha

Tá VeTek Semiconductor ICPPSS (Stripping Plasma Photoresist Coupled Inductively Coupled) Iompróir Wafer Próiseas Eitseála deartha go sonrach chun freastal ar riachtanais éilitheacha phróisis eitseála an tionscail leathsheoltóra. Leis na gnéithe casta, cinntíonn sé an fheidhmíocht is fearr, éifeachtacht, agus iontaofacht ar fud an phróisis eitseála.

Buntáiste na bhForraí Próisis Eitseála Leathsheoltóra VeTek ICP/PSS:

Comhoiriúnacht Cheimiceach Feabhsaithe: Déantar an t-iompróir wafer ag baint úsáide as ábhair a thaispeánann comhoiriúnacht cheimiceach den scoth le ceimicí an phróisis eitseála. Cinntíonn sé seo comhoiriúnacht le raon leathan eitneach, resist strippers, agus réitigh glantacháin, a íoslaghdú an baol imoibrithe ceimiceacha nó éillithe.

Friotaíocht Ardteochta: Tá an t-iompróir wafer deartha chun teocht ard a sheasamh le linn an phróisis eitseála. Coinníonn sé a shláine struchtúrach agus a neart meicniúil, rud a choscann dífhoirmiú nó damáiste fiú faoi choinníollacha teirmeacha foircneacha.

Comhionannas Superior Etch: Tá dearadh beacht innealtóireacht ag an iompróir a chuireann dáileadh aonfhoirmeach eitse agus gás chun cinn ar fud an dromchla wafer. Tá rátaí eitse comhsheasmhacha mar thoradh air seo agus patrúin aonfhoirmeacha ardcháilíochta, atá riachtanach chun torthaí eitseála beachta agus iontaofa a bhaint amach.

Cobhsaíocht Wafer den Scoth: Ionchorpraíonn an t-iompróir meicníocht shlán coinneála sliseog a chinntíonn suíomh cobhsaí agus a chuireann cosc ​​ar ghluaiseacht sliseog nó sleamhnú le linn an phróisis eitseála. Cinntíonn sé seo patrúin eitse atá cruinn agus in-athdhéanta, rud a íoslaghdaíonn lochtanna agus caillteanais toraidh.

Comhoiriúnacht Seomra Glan: Tá an t-iompróir wafer deartha chun caighdeáin dochta seomra glan a chomhlíonadh. Gnéithe sé giniúint cáithníní íseal agus glaineachta den scoth, a chosc aon éilliú cáithníní a d'fhéadfadh cur isteach ar cháilíocht agus toradh an phróisis eitseála. Tá eisíontas faoi bhun 5ppm.

Tógáil Láidir agus CRUA: Déantar an t-iompróir a innealtóireacht ag baint úsáide as ábhair ardchaighdeáin a bhfuil aithne orthu mar gheall ar a marthanacht agus a saolré fada. Féadann sé úsáid arís agus arís eile agus próisis ghlantacháin dhian a sheasamh gan cur isteach ar a fheidhmíocht nó ar a shláine struchtúrach.

Dearadh Inoiriúnaithe: Cuirimid roghanna inoiriúnaithe ar fáil chun freastal ar riachtanais shonracha an chustaiméara. Is féidir an t-iompróir a shaincheapadh chun freastal ar mhéideanna éagsúla wafer, tiús, agus sonraíochtaí próisis, ag cinntiú comhoiriúnacht le trealamh agus próisis eitseála éagsúla.

Taithí a fháil ar iontaofacht agus feidhmíocht ár nIompar Wafer Próiseas Eitseála ICP/PSS, atá deartha chun an próiseas eitseála sa tionscal leathsheoltóra a bharrfheabhsú. Déanann a chomhoiriúnacht cheimiceach fheabhsaithe, friotaíocht ardteochta, aonfhoirmeacht eitse níos fearr, cobhsaíocht wafer den scoth, comhoiriúnacht seomra glan, tógáil láidir, agus dearadh inoiriúnaithe é an rogha iontach do d'iarratais eitseála.

Pláta Eitseála PSS Pláta Eitseála ICP Suaimhneas Eitseála ICP