Cé mhéad atá ar eolas agat faoi CVD SiC?

CVD SiCIs ábhar cairbíde sileacain ard-íonachta é (Sistíocht Gaile Ceimiceach Carbíd Sileacain) a mhonaraítear trí thaisceadh gaile ceimiceach. Úsáidtear go príomha le haghaidh comhpháirteanna agus bratuithe éagsúla i dtrealamh próiseála leathsheoltóra.Ábhar CVD SiCtá cobhsaíocht theirmeach den scoth, cruas ard, comhéifeacht leathnú teirmeach íseal agus friotaíocht creimeadh ceimiceach den scoth, rud a fhágann gur ábhar idéalach é le húsáid faoi dhálaí foircneacha próisis.

Úsáidtear ábhar CVD SiC go forleathan i gcomhpháirteanna a bhaineann le teocht ard, timpeallacht an-chreimneach agus strus ard meicniúil sa phróiseas déantúsaíochta leathsheoltóra,go príomha lena n-áirítear na táirgí seo a leanas:

Cumhdach CVD SiC:

Úsáidtear é mar chiseal cosanta le haghaidh trealamh próiseála leathsheoltóra chun cosc ​​a chur ar an tsubstráit ó bheith damáiste ag teocht ard, creimeadh ceimiceach agus caitheamh meicniúil.

Bád Wafer SiC:

Úsáidtear é chun sliseog a iompar agus a iompar i bpróisis ardteochta (amhail fás idirleata agus epitaxial) chun cobhsaíocht na sliseog agus aonfhoirmeacht na bpróiseas a chinntiú.

Feadán próisis SiC:

Úsáidtear feadáin próisis SiC go príomha i bhfoirnéisí idirleata agus i bhfoirnéisí ocsaídiúcháin chun timpeallacht imoibrithe rialaithe a sholáthar do sliseog sileacain, ag cinntiú sil-leagan beacht ábhair agus dáileadh aonfhoirmeach dópála.

SiC Cantilever Paddle:

Úsáidtear SiC Cantilever Paddle go príomha chun sliseoga sileacain a iompar nó a thacú i bhfoirnéisí idirleata agus i bhfoirnéisí ocsaídiúcháin, ag imirt ról imthacaí. Go háirithe i bpróisis ardteochta mar idirleathadh, ocsaídiú, annealing, etc., cinntíonn sé cobhsaíocht agus cóireáil aonfhoirmeach sliseog sileacain i dtimpeallachtaí foircneacha.

Ceann Cith CVD SiC:

Úsáidtear é mar chomhpháirt dáileadh gáis i dtrealamh eitseála plasma, le friotaíocht creimeadh den scoth agus cobhsaíocht theirmeach chun dáileadh aonfhoirmeach gáis agus éifeacht eitseála a chinntiú.

Uasteorainn Brataithe SiC:

Comhpháirteanna sa seomra imoibrithe trealaimh, a úsáidtear chun an trealamh a chosaint ó dhamáiste ó gháis ardteochta agus creimneach, agus saol seirbhíse an trealaimh a leathnú.

Suiméirí Eipiteacs Sileacain:

Iompróirí sliseog a úsáidtear i bpróisis fáis epitaxial sileacain chun cáilíocht aonfhoirmeach teasa agus sil-leagan na sliseog a chinntiú.

Tá raon leathan feidhmchlár i bpróiseáil leathsheoltóra ag gal ceimiceach chomhdhúile sileacain taiscthe (CVD SiC), a úsáidtear go príomha chun feistí agus comhpháirteanna a mhonarú atá frithsheasmhach in aghaidh teocht ard, creimeadh, agus cruas ard.Léirítear a ról lárnach sna gnéithe seo a leanas:

Bratuithe cosanta i dtimpeallachtaí ardteochta:

Feidhm: Is minic a úsáidtear CVD SiC le haghaidh bratuithe dromchla ar phríomhchodanna i dtrealamh leathsheoltóra (cosúil le súchán, líneálacha seomra imoibrithe, etc.). Caithfidh na comhpháirteanna seo oibriú i dtimpeallachtaí ardteochta, agus is féidir le bratuithe CVD SiC cobhsaíocht theirmeach den scoth a sholáthar chun an tsubstráit a chosaint ó dhamáiste ardteochta.

Buntáistí: Cinntíonn an pointe leá ard agus seoltacht theirmeach den scoth CVD SiC gur féidir leis na comhpháirteanna oibriú go cobhsaí ar feadh i bhfad faoi choinníollacha teocht ard, ag leathnú shaol seirbhíse an trealaimh.

Iarratais frith-chreimeadh:

Feidhm: Sa phróiseas déantúsaíochta leathsheoltóra, is féidir le sciath CVD SiC seasamh in aghaidh go héifeachtach le creimeadh gáis agus ceimiceán creimneach agus sláine trealaimh agus feistí a chosaint. Tá sé seo thar a bheith tábhachtach chun gáis an-chreimneach amhail fluairíd agus clóirídeanna a láimhseáil.

Buntáistí: Trí sciath CVD SiC a thaisceadh ar dhromchla an chomhpháirte, is féidir an damáiste trealaimh agus na costais chothabhála de bharr creimeadh a laghdú go mór, agus is féidir éifeachtacht táirgthe a fheabhsú.

Feidhmchláir ard-neart agus caitheamh-resistant:

Feidhm: Tá ábhar CVD SiC ar eolas mar gheall ar a chruas ard agus a neart meicniúil ard. Úsáidtear go forleathan é i gcomhpháirteanna leathsheoltóra a éilíonn friotaíocht caitheamh agus cruinneas ard, mar shampla rónta meicniúla, comhpháirteanna ualachiompartha, etc. Tá na comhpháirteanna seo faoi réir strus meicniúil láidir agus cuimilte le linn oibriú. Is féidir le CVD SiC na strusanna seo a sheasamh go héifeachtach agus saolré fada agus feidhmíocht chobhsaí na feiste a chinntiú.

Buntáistí: Ní féidir le comhpháirteanna atá déanta as CVD SiC strus meicniúil a sheasamh ach amháin i dtimpeallachtaí foircneacha, ach freisin a gcobhsaíocht tríthoiseach agus críochnú dromchla a choinneáil tar éis úsáid fadtéarmach.

Ag an am céanna, tá ról ríthábhachtach ag CVD SiC iFás epitaxial stiúir, leathsheoltóirí cumhachta agus réimsí eile. Sa phróiseas déantúsaíochta leathsheoltóra, is gnách go n-úsáidtear foshraitheanna CVD SiC marSUSCEPTORs EPI. Mar gheall ar a seoltacht theirmeach den scoth agus cobhsaíocht cheimiceach tá cáilíocht agus comhsheasmhacht níos airde ag na sraitheanna epitaxial a fhástar. Ina theannta sin, úsáidtear CVD SiC go forleathan freisin iIompróirí eitseála PSS, Iompróirí sliseog RTP, Iompróirí eitseála ICP, etc., tacaíocht chobhsaí agus iontaofa a sholáthar le linn eitseála leathsheoltóra chun feidhmíocht gléas a chinntiú.

Tá VeTek semiconductor Technology Co., TEO ina phríomhsholáthraí d'ábhair bhrataithe chun cinn don tionscal leathsheoltóra. Díríonn ár gcuideachta ar réitigh atá ar thús cadhnaíochta don tionscal.

I measc ár bpríomhthairiscintí táirgí tá bratuithe cairbíde sileacain CVD (SiC), bratuithe chomhdhúile tantalam (TaC), mórchóir SiC, púdair SiC, agus ábhair SiC ard-íonachta, susceptor graifít brataithe SiC, réamhtheas, fáinne atreoraithe brataithe TaC, leathmhóin, páirteanna gearrtha srl. ., Tá an íonacht faoi bhun 5ppm, is féidir le fáinní gearrtha freastal ar riachtanais an chustaiméara.

Díríonn leathsheoltóir VeTek ar theicneolaíocht cheannródaíoch agus réitigh forbartha táirgí a fhorbairt don tionscal leathsheoltóra.Tá súil againn ó chroí a bheith i do chomhpháirtí fadtéarmach sa tSín.