Fáinne Carbide Tantalum

Úsáideann Fáinne Tantalum Carbide (TaC) VeTek Semiconductor graifít ardcháilíochta mar chroí-ábhar agus, a bhuíochas dá struchtúr uathúil, tá sé in ann a cruth agus a airíonna meicniúla a choinneáil faoi dhálaí foircneacha foirnéise fáis criostail. Tugann friotaíocht teasa ard Graphite cobhsaíocht den scoth dó ar fud anpróiseas fáis criostail.

Tá ciseal seachtrach an Fháinne TaC clúdaithe le asciath chomhdhúile tantalam, ábhar atá aitheanta mar gheall ar a chruas an-ard, a leáphointe os cionn 3880 ° C, agus a fhriotaíocht den scoth ar chreimeadh ceimiceach, rud a fhágann go bhfuil sé oiriúnach go háirithe do thimpeallachtaí oibriúcháin ardteochta. Soláthraíonn an sciath chomhdhúile tantalum bacainn láidir chun imoibrithe ceimiceacha foréigneacha a chosc go héifeachtach agus a chinntiú nach bhfuil an croí graifít creimthe ag gáis foirnéise ardteochta.

I rithfás criostail chomhdhúile sileacain (SiC)., tá coinníollacha fáis cobhsaí agus aonfhoirmeach ríthábhachtach chun criostail ardteochta a chinntiú. Tá ról ríthábhachtach ag Fáinne Cumhdach Carbide Tantalum maidir le sreabhadh gáis a rialáil agus dáileadh teochta laistigh den fhoirnéis a bharrfheabhsú. Mar fháinne treorach gáis, cinntíonn an Fáinne TaC dáileadh aonfhoirmeach fuinnimh teasa agus gáis imoibrithe, ag cinntiú fás aonfhoirmeach agus cobhsaíocht criostail SiC.

Ina theannta sin, cuireann seoltacht ard teirmeach graifíte in éineacht le héifeacht cosanta Tantalum Carbide Brataithe ar chumas an Fháinne Treorach TaC oibriú go cobhsaí sa timpeallacht ardteochta atá ag teastáil le haghaidh fás criostail SiC. Tá a neart struchtúrach agus a chobhsaíocht tríthoiseach ríthábhachtach chun coinníollacha a chothabháil san fhoirnéis, rud a chuireann isteach go díreach ar chaighdeán na criostail a tháirgtear. Trí luaineachtaí teirmeacha agus imoibrithe ceimiceacha laistigh den fhoirnéis a laghdú, cabhraíonn TaC Coating Ring le criostail a ghiniúint le hairíonna leictreonacha den scoth le haghaidh feidhmchláir leathsheoltóra ardfheidhmíochta.

Is cuid lárnach de Fáinne Carbide Tantalum VeTek Leathsheoltórafoirnéisí fáis criostail chomhdhúile sileacainagus seasann sé amach as a marthanacht den scoth, cobhsaíocht theirmeach agus friotaíocht ceimiceach. Ceadaíonn an meascán uathúil de chroíghrafít agus sciath TaC dó sláine struchtúrach agus feidhmiúlacht a choinneáil faoi dhálaí crua. Trí theocht agus sreabhadh gáis na foirnéise a rialú go beacht, soláthraíonn an Fáinne Cumhdach TaC na coinníollacha is gá chun criostail SiC ardchaighdeáin a tháirgeadh, atá ríthábhachtach do tháirgeadh comhpháirteanna leathsheoltóra ceannródaíocha.

Bratú chomhdhúile tantalam (TaC) ar thrasghearradh micreascópach：