Suaimhneas Pláinéadach ALD

Próiseas ALD,ciallaíonn sé próiseas Epitaxy Sraith Adamhach. D'fhorbair agus tháirg monaróirí córais Vetek Semiconductor agus ALD Susceptors Planetary ALD atá brataithe le SiC a chomhlíonann riachtanais arda an phróisis ALD chun an sruth aeir a dháileadh go cothrom thar an tsubstráit. Ag an am céanna, cinntíonn sciath ardíonachta CVD SiC Vetek Semiconductor íonacht sa phróiseas. Fáilte chun comhoibriú a phlé linn.

Seol Fiosrúchán

Cur síos ar an Táirge

Mar an monaróir gairmiúil, ba mhaith le Vetek Semiconductor Susceptor Pláinéadlann ALD atá brataithe le SiC a sholáthar duit.

Seasann an próiseas ALD, ar a dtugtar Adamhach Layer Epitaxy, mar bhuaic beachtas i dteicneolaíocht taiscthe scannán tanaí. Tá Vetek Semiconductor, i gcomhar le príomh-dhéantúsóirí córais ALD, chun tosaigh i bhforbairt agus i monarú so-ghabhdóirí pláinéadacha ALD atá brataithe le SiC. Rinneadh innealtóireacht chúramach ar na so-ghabhdóirí nuálacha seo chun éilimh dhian an phróisis ALD a shárú, ag cinntiú dáileadh aonfhoirmeach an tsreafa aeir ar fud an tsubstráit le cruinneas agus éifeachtúlacht gan sárú.

Ina theannta sin, léirítear tiomantas Vetek Semiconductor do shármhaitheas trí úsáid a bhaint as bratuithe CVD SiC ardíonachta, rud a ráthaíonn leibhéal íonachta atá ríthábhachtach do rath gach timthrialla taisce. Ní hamháin go gcuireann an tiomantas seo do cháilíocht le hiontaofacht an phróisis ach ardaíonn sé freisin feidhmíocht fhoriomlán agus in-atáirgtheacht na bpróiseas ALD in iarratais éagsúla.

Buntáistí Forbhreathnú Teicneolaíochta ALD:

Rialú Beacht Tiús: Tiús scannáin fho-nanaiméadar a bhaint amach le atrialltacht den scoth trí thimthriallta sil-leagan a rialú.

Smoothness Dromchla: Cinntíonn comhréireacht foirfe 3D agus clúdach céim 100% bratuithe mín a leanann cuaire an tsubstráit go hiomlán.

Infheidhmeacht Leathan: Infhaighte ar rudaí éagsúla ó sliseog go púdair, oiriúnach le haghaidh foshraitheanna íogaire.

Airíonna Ábhar Inoiriúnaithe: Saincheapadh éasca ar airíonna ábhair le haghaidh ocsaídí, nítrídídí, miotail, etc.

Fuinneog Próiseas Leathan: Neamhíogaireacht d'éagsúlachtaí teochta nó réamhtheachtaithe, rud a chabhródh le táirgeadh bhaisc le aonfhoirmeacht tiús sciath foirfe.

Iarraimid oraibh dul i mbun comhphlé linn chun comhoibrithe agus comhpháirtíochtaí féideartha a fhiosrú. Le chéile, is féidir linn féidearthachtaí nua a oscailt agus nuálaíocht a thiomáint i réimse na teicneolaíochta taiscthe scannán tanaí.

Airíonna fisiceacha bunúsacha sciath CVD SiC:

Airíonna fisiceacha bunúsacha sciath CVD SiC
Maoin	Luach Tipiciúil
Struchtúr Criostail	FCC β chéim polycrystalline, go príomha (111) atá dírithe
Dlús	3.21 g / cm³
Cruas	Cruas 2500 Vickers (ualach 500g)
Grán SiZe	2~10μm
Íonacht Cheimiceach	99.99995%
Cumas Teasa	640 J·kg-1·K-1
Teocht sublimation	2700 ℃
Neart Flexural	415 MPa RT 4-phointe
Modal Óg	Bend 430 Gpa 4pt, 1300 ℃
Seoltacht Theirmeach	300W·m-1·K-1
Leathnú Teirmeach (CTE)	4.5×10-6K-1